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溅射过程监控器(SPM)和标准PrismaPlus离子源概念

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2020-01-24 0:27:59 * 浏览: 0
溅射过程监控器(SPM)离子源位于离子源中,形成区域(7)直接连接到处理室。分析仪配备了一个小型分子泵站(1),该泵也将阴极空间(5)排空到大约10-5 hPa。电子从低压侧通过一个小孔注入形成区域(7)以使气体电离。这样形成的离子通过低压侧的一个小孔被抽出到质量过滤器中。该离子源具有两个主要优点,可在溅射过程中检查气体成分。一方面,在高达三个数量级的离子源压力下进行分析,也就是说,可以在真空室内承受更高的过程压力。另一方面,热线不与溅射过程直接接触。这避免了敏感工艺中热阴极的污染。标准PrismaPlus离子源此处描述的所有离子源均通过电子撞击而电离。离子源可分为两类:■如果使用要分析的气体的高真空lt,1middot,10-4 hPa,则使用开放式离子源。 ■封闭离子源用于分析应用中,例如,当仅提供少量样品气体或降低质谱仪真空系统的背景影响时。封闭的离子源与差动排气系统结合使用(图6.13)来分析高压气体。普发真空的PrismaPlus质谱仪配备了这种功能强大且高度灵敏的离子源。它是一种离子源,特别适合残留气体分析。其设计类似于带有两个阴极的栅极离子源,可确保可靠运行。开放式和气密式均可用。气密型在轴向上具有进气口。